KONTAKT POSITIV 20

Részösszeg (1 egység)*

10 253 Ft

(ÁFA nélkül)

13 021 Ft

(ÁFÁ-val)

Add to Basket
Adja meg a mennyiséget
Átmenetileg nincsen készleten
  • 6 egység szállítása 2026. február 16. dátumtól
Többre van szüksége? További részletekért kattintson a „Szállítási dátumok ellenőrzése” gombra.
Egység
Egységenként
1 +10 253 Ft

*irányár

RS raktári szám:
173-886
Gyártó cikkszáma:
82009
Gyártó:
Kontakt Chemie
Hasonló termékek keresése egy vagy több attribútum kiválasztásával.
Az összes kiválasztása

Márka

Kontakt Chemie

Feldolgozás típusa

Marás

Anyag

Novolack, o-nafto-kinon-diazid

Vasklorid formája

Folyadék

Kereskedelmi név

POSITIV 20

Származási ország (Country of Origin):
BE

CRC marató vegyszer, folyékony vas-klorid forma, Novolack - 82009


Ez a maró vegyszer egy folyékony fotopozitív reziszt, amelyet a nyomtatott áramköri lapok gyártásához terveztek. Novolack és O-Nafto-chinon-diazid összetételéből készül, és hatékonyan viszi át a mintákat különböző hordozókra. Az érzékeny összetétel nagy pontosságot tesz lehetővé a kémiai maratási folyamatokban, biztosítva, hogy az elektromos áramkörök érintetlenek maradjanak az alkalmazás után.

Jellemzők és előnyök


• Ellenáll az erős savas maratásnak, ugyanakkor könnyű eltávolítást tesz lehetővé
• Maximális fényérzékenység az UV-A hullámhossztartományban
• Sötét vagy sárga fényben történő alkalmazásra tervezték
• Alkalmas fém és üveg litográfiai projektekhez egyaránt
• Biztosítja a pontos mintaátvitelt az áramköri lapokon
• Lehetővé teszi a réz és sárgaréz anyagok hatékony maratását

Alkalmazások


• Nyomtatott áramköri lapok gyártásához használják
• Fémeken alkalmazott fotolitográfiai eljárásokban
• Üvegmaratásra alkalmas
• Tartós feliratok vagy grafikák készítésére használják

Hogyan kell előkészíteni a felületeket a felhordás előtt?


A felületeket meg kell tisztítani a zsírtól és az oxidoktól, ideális esetben vízalapú tisztítási eljárással, a teljes nedvesíthetőség biztosítása érdekében a végső öblítést ionmentesített vízzel kell elvégezni.

Mi a javasolt szárítási folyamat a bevonás után?


A bevonás után a táblákat sötétben kell szárítani, a hőmérsékletet fokozatosan 70 °C-ra emelve és 15 percig fenntartva az optimális filmminőség biztosítása érdekében.

Hogyan zajlik az expozíciót követően a fejlesztési folyamat?


A fedetlen lemezt körülbelül 60 másodpercre nátrium-hidroxidfürdőbe kell meríteni a fedetlen lakk feloldása érdekében, majd alaposan le kell öblíteni vízzel.

Kapcsolódó linkek